【半導体】早大など、半導体表面を原子レベルで平坦化可能な技術につながる現象を発見 [すらいむ★]

早大など、半導体表面を原子レベルで平坦化可能な技術につながる現象を発見

　早稲田大学(早大)、名古屋大学(名大)、日本原子力研究開発機構(JAEA)は7月20日、半導体表面を原子レベルで平坦にする新技術として応用可能な「ステップアンバンチング現象」を発見したことを共同で発表した。

（以下略、続きはソースでご確認ください）

マイナビニュース　2023/07/21 15:13
https://news.mynavi.jp/techplus/article/20230721-2731215/

論文
Step unbunching phenomenon on 4H-SiC (0001) surface during hydrogen etching
https://pubs.aip.org/aip/apl/article/123/3/031603/2903020/Step-unbunching-phenomenon-on-4H-SiC-0001-surface

同成果は、早大 理工学術院の乗松航教授(名大 客員教授兼任)、名大の榊原涼太郎大学院生、中国内モンゴル民族大学の包建峰講師、JAEAの寺澤知潮研究員、名大 未来材料システム研究所の楠美智子名誉教授らの国際共同研究チームによるもの。

大丈夫か。中国人が入っとるやないか

早大理工というと小保方さん

これは信用できるなｗ

あんバーンチ！で原子レベルのつるぺた加工

よく分からんけど原子レベルの半導体じゃなくて原子レベルの半導体表面なのね

都の西北　ワセダの隣

「君の中にステップ！」
「あん」
「ぱんち！」
「んぐんぐ・・・・いっぱい出たね。」

下ネタにつながるヤツの心理って大抵は威嚇と同じ様な意味を持つらしいね

　
つるぺた