透明材料に、ピコ秒のレーザーパルスで縦穴状の自由電子領域を作って、
マイクロ秒のレーザーパルスをそこに吸収させて加熱・蒸発させるらしい
この方法を応用して従来のエッチングに代わるようなものを実現するには
まだ何段階かの発展が必要に思える
>>本手法では、レーザーの空間波形をベッセルビーム(注2)に整形することで、光強度分布を高アスペクト比(ここでは穴の深さと直径の比率を表す)なライン状に制御しました。
>>時間波形については、ピコ秒オーダーの鋭いレーザーパルスと低強度のマイクロ秒オーダーのレーザーパルスを重畳させることで、ガラス基板の表面から裏面を貫く高アスペクト比な自由電子領域を生成し、その領域のみの選択的な超高速加熱・蒸発を実現しました。
【半導体材料】東大がガラスを従来比100万倍の速さで加工する手法を開発、半導体基板への応用に期待 [すらいむ★]
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9名無しのひみつ
2025/06/14(土) 06:25:05.25ID:zO4SUypn■ このスレッドは過去ログ倉庫に格納されています
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