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\(^o^)/
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1山師さん
2026/02/21(土) 10:37:17.63ID:wwiyzO9H58山師さん
2026/08/27(木) 01:27:29.56ID:Lgbd4aSJ ローム
59山師さん
2026/08/28(金) 02:40:04.96ID:f+RcuaXC 三菱重工
60山師さん
2026/08/28(金) 07:33:49.76ID:nlquHkb+ 今日も垂直落下だー
61山師さん
2026/08/28(金) 07:52:28.77ID:3r7d8Ehj こんなところにあったんか
62山師さん
2026/08/29(土) 03:03:19.59ID:FSwkFaHc ゆうちょ銀行
63山師さん
2026/08/29(土) 22:26:40.18ID:mURRnEQp 西松屋
64山師さん
2026/08/31(月) 01:24:25.78ID:DYIICpxH 三菱商事
65山師さん
2026/08/31(月) 11:30:33.58ID:i7ObVCE2 日東電工
66山師さん
2026/09/01(火) 03:39:09.50ID:WpPhHNjq 三井住友トラスト
67山師さん
2026/09/02(水) 03:19:16.31ID:tNMYEBAo イオン
68山師さん
2026/09/02(水) 11:04:42.00ID:5pbLCfaB 今日が買いだ
69山師さん
2026/09/03(木) 01:30:23.18ID:M8q5N2QB 三井住友トラスト
70山師さん
2026/09/04(金) 02:19:33.76ID:TExTGxU9 丸三証券
71山師さん
2026/09/05(土) 02:25:34.15ID:mMYD4gvY 岩井コスモ
72山師さん
2026/09/06(日) 03:07:15.70ID:VRvQtNM1 東邦ガス
73山師さん
2026/09/06(日) 14:45:52.46ID:TYGB+H7h 日東電工
74山師さん
2026/09/07(月) 02:39:33.27ID:v6rXhiuB 中部飼料
75山師さん
2026/09/08(火) 01:44:46.80ID:aRBja/b1 森永乳業
76山師さん
2026/09/09(水) 01:51:39.11ID:PuxWWuUm 味の素
77山師さん
2026/09/09(水) 05:23:46.67ID:lw/+GMJ0 日経
◇殺人組織のエネルギー兵器の内部構造を調べられるようになったのか
※量子コンピューター内の構造も調べられるのか
※パソコンの性能がささらに向上して耐久性が上がるのか
従来評価困難だった半導体配線界面の化学構造変化を直接観察 東レリサーチセンターと芝浦工業大学が成功
芝浦工業大学
2026年9月8日
https://univ-journal.jp/1001601/
>> 株式会社東レリサーチセンターと芝浦工業大学の田邉 匡生教授の研究グループは、AFM-IRという分析技術を用いて、半導体配線に用いられるCu(銅)配線とLow-k絶縁膜の界面近傍で生じるナノメートルスケール(1ナノメートルは10億分の1メートル)の化学構造変化を直接観察することに成功した。
>> これまで、実際の半導体配線構造において、従来の赤外分光法では測定領域が広く、周辺領域の信号と平均化されるため、Cu配線近傍のごく限られた領域で生じる化学構造変化を直接評価することは困難だった。そこで研究グループは、赤外分光法(IR)と原子間力顕微鏡(AFM)を組み合わせた原子間力顕微鏡赤外分光法(AFM-IR)に着目。AFM-IRはナノメートルオーダーで化学分析が可能な分析技術だ。
>> 研究グループは、半導体配線構造を模擬したCu/Low-k絶縁膜(配線同士の電気的干渉の発生を抑える絶縁材料)試料を対象に、AFM-IRを用いて、Cu配線近傍の化学構造を調べた。
>> Cu/Low-k絶縁膜配線構造の表面に対してAFM-IR測定を行った結果、Low-k絶縁膜中央部と比較して、Cu配線近傍ではLow-k絶縁膜の性能維持に重要なSi-CH₃(メチル基)およびSi-H結合が減少していた。また、水酸基(OH)に由来する成分が増加していた。さらに、このような化学構造変化は界面から数十ナノメートル程度の極めて狭い領域に集中していた。
>> これにより、半導体製造工程で生じる界面ダメージや材料劣化について、その発生位置や化学変化をナノスケールで詳細に解析できるようになる。半導体材料開発や製造プロセス改善、および高性能・高信頼性半導体の開発への貢献が期待されるとしている。
◇殺人組織のエネルギー兵器の内部構造を調べられるようになったのか
※量子コンピューター内の構造も調べられるのか
※パソコンの性能がささらに向上して耐久性が上がるのか
従来評価困難だった半導体配線界面の化学構造変化を直接観察 東レリサーチセンターと芝浦工業大学が成功
芝浦工業大学
2026年9月8日
https://univ-journal.jp/1001601/
>> 株式会社東レリサーチセンターと芝浦工業大学の田邉 匡生教授の研究グループは、AFM-IRという分析技術を用いて、半導体配線に用いられるCu(銅)配線とLow-k絶縁膜の界面近傍で生じるナノメートルスケール(1ナノメートルは10億分の1メートル)の化学構造変化を直接観察することに成功した。
>> これまで、実際の半導体配線構造において、従来の赤外分光法では測定領域が広く、周辺領域の信号と平均化されるため、Cu配線近傍のごく限られた領域で生じる化学構造変化を直接評価することは困難だった。そこで研究グループは、赤外分光法(IR)と原子間力顕微鏡(AFM)を組み合わせた原子間力顕微鏡赤外分光法(AFM-IR)に着目。AFM-IRはナノメートルオーダーで化学分析が可能な分析技術だ。
>> 研究グループは、半導体配線構造を模擬したCu/Low-k絶縁膜(配線同士の電気的干渉の発生を抑える絶縁材料)試料を対象に、AFM-IRを用いて、Cu配線近傍の化学構造を調べた。
>> Cu/Low-k絶縁膜配線構造の表面に対してAFM-IR測定を行った結果、Low-k絶縁膜中央部と比較して、Cu配線近傍ではLow-k絶縁膜の性能維持に重要なSi-CH₃(メチル基)およびSi-H結合が減少していた。また、水酸基(OH)に由来する成分が増加していた。さらに、このような化学構造変化は界面から数十ナノメートル程度の極めて狭い領域に集中していた。
>> これにより、半導体製造工程で生じる界面ダメージや材料劣化について、その発生位置や化学変化をナノスケールで詳細に解析できるようになる。半導体材料開発や製造プロセス改善、および高性能・高信頼性半導体の開発への貢献が期待されるとしている。
78山師さん
2026/09/10(木) 03:14:51.18ID:NezBX2eN 神戸
物産
物産
79山師さん
2026/09/11(金) 03:01:44.92ID:e5N7fwq4 セブンアイ
80山師さん
2026/09/12(土) 04:38:05.97ID:wwZcNHvB SUMCO
81山師さん
2026/09/13(日) 02:16:16.76ID:RGNS8Uga 住友精化
82山師さん
2026/09/14(月) 02:45:20.57ID:lCQKz0Ue 塩野義製薬
83山師さん
2026/09/15(火) 02:52:39.87ID:vDWO6m0z 日本製鉄
84山師さん
2026/09/16(水) 03:14:42.44ID:dy/qA491 JX金属
85山師さん
2026/09/17(木) 07:56:23.44ID:Tglh6v3c フジテレビ
86山師さん
2026/09/18(金) 03:10:34.60ID:8sBcAx2T エネオス
87山師さん
2026/09/19(土) 02:22:43.90ID:s0oA5kba パソナ
88山師さん
2026/09/20(日) 02:44:26.18ID:RSiHOmno 亀田製菓
89山師さん
2026/09/21(月) 02:08:21.16ID:/eXOh1Fl 味の素
90山師さん
2026/09/22(火) 02:18:58.09ID:n4LB/Yiz 神戸
物産
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91山師さん
2026/09/23(水) 01:50:27.89ID:PxjWbF75 SUMCO
92山師さん
2026/09/24(木) 00:36:29.35ID:jEXsXXnl 住友精化
93山師さん
2026/09/25(金) 00:59:07.20ID:Pys/7MUE 塩野義製薬
94山師さん
2026/09/26(土) 02:05:05.51ID:KB/gPYsK フジテレビ
95山師さん
2026/09/27(日) 01:29:56.77ID:S+sF/shz 資生堂
96山師さん
2026/09/28(月) 01:24:54.01ID:vssalvqE JX金属
97山師さん
2026/09/29(火) 07:08:13.28ID:f6WZNRsG エネオス
98山師さん
2026/09/30(水) 01:58:23.30ID:GGzRyOI7 コスモHD
99山師さん
2026/10/01(木) 08:27:09.12ID:ZC/94sO5 住友大阪セメント
100山師さん
2026/10/02(金) 02:30:14.10ID:fbF4I0t5 住友電工
101山師さん
2026/10/03(土) 04:34:01.49ID:WbHsvs87 日本郵政
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2026/10/04(日) 00:42:21.07ID:dgDdLJXT オムロン
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2026/10/05(月) 00:51:32.43ID:ApVyfUff 日本郵政
104山師さん
2026/10/06(火) 02:00:04.53ID:T+tAhn2w TDK
105山師さん
2026/10/07(水) 02:38:04.89ID:u0hlTtlx ローム
106山師さん
2026/10/08(木) 01:32:55.97ID:s5Kfgmqm 京セラ
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2026/10/09(金) 03:53:08.40ID:bGIaDbHN 三菱重工
108山師さん
2026/10/10(土) 13:44:48.51ID:zSWXLik6 村田製作所
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