>>82
それ間違いらしいぞ
＞5nmプロセスと比較し、トランジスタ密度は15％、パフォーマンスは10%〜15%、エネルギー効率は20%〜25%向上する
トランジスタ密度向上分は15％ではない

最新の発表によるとN3は5nm比でトランジスタ密度70%、性能10-15%、電力25-30%の向上
トランジスタ密度は291.21MTr/mm2と推定されている
https://fuse.wikichip.org/wp-content/uploads/2020/04/tsmc-3nm-density-q1-2020.png

ソースはこれ
7月16日付けTSMC収支報告内容
https://www.tsmc.com/uploadfile/ir/quarterly/2020/2N04D/E/TSMC%202Q20%20Transcript.pdf
N3 will be another full-node stride from our N5 with about a 70% logic density
gain(以下略)