ASMLのEUV露光装置が中国に流入した可能性があり、トランプ政権は米国主導の輸出規制違反の可能性について改めて調査を開始した。

同様の懸念は2025年末にもすでに表明されていた。ロイター通信は、ASMLの元技術者がASMLの技術をリバースエンジニアリングすることで、中国が深圳でEUV露光装置のプロトタイプを開発するのを支援したと報じた。

これは決して軽視できない問題だ。中国がASMLの技術を模倣する方法を見つければ、半導体生産において急速に追いつき、欧米の大手企業と肩を並べる可能性もある。